OLED蒸镀设备

iNFOVION IE-1200

2016年03月01日

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v技术参数                                                                    


旋转基片架

玻璃样品100 mm×100mm

旋转速度(5~50rpm)

主挡板

2个可更换掩膜板

Pin掩膜板对准器(±100um)

有机蒸发源

(9套)

PBN坩埚,5cc

最高温度500℃,温度可控

自动反馈速率控制

蒸发源挡板

金属蒸发源

(3套)

热蒸发舟

自动反馈速率控制

蒸发源挡板

测量系统

全量程真空计

前级皮拉尼计

ATM传感器

石英晶振在线测量仪(7套)

真空系统

低温冷凝泵

冷头可自动再生

旋片泵(800L/min)

电动安全放气阀

放气口

充N2+应急放气口

本底真空

5×10-7torr(120分钟内)


v沉积室

n9个有机蒸发源和3个金属蒸发源

n单片玻璃样品(100×100mm/0.5~0.7t)

n薄膜均匀性优越(±3%)

n沉积速率可控

v传送系统

   nLOAD-LOCK自动上下样品系统

v手套箱

   n单工位,右置过渡舱

  n内置旋涂机和UV固化系统

v控制系统

  n提供制程工艺配方、存储数据和设置参数

 n全自动化计算机控制系统

 n具有安全互锁功能

v水、空气和气体参数

PCW

<3 kgf/cm2

CDA

<6 kgf/cm2

气体

N2(腔室和手套箱)

N2H2(96:4)(手套箱)

vAlq3Al沉积速率曲线


vAlq3Al同时沉积速率曲线

n沉积速率:Al(1A/s)、Alq3(3A/s)

n沉积厚度:Al(30nm)、Alq3(90nm)

v蒸发源温度设定值和实际值对比

v掩膜和样品对准效果

ITO导电玻璃上沉积Al膜

n掩膜和样品对准精度高

n无掩膜阴影影响(掩膜-样品间隙0.2mm)

                                    n发光测试(NPB40um、Alq360um、LiF1um、Al1500um)

vAlq3Al薄膜均匀性测量结果

                              测量结论:

n100×100mm玻璃基片上分别沉积Alq3Al薄膜

                                     n在玻璃基片上分布10个均匀性测量点

                                     nAlq3膜的均匀性:0.1%

                                     nAl膜的均匀性:2.7%









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