Savannah G2

原子层沉积系统(实验室专用)

2017年01月01日

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Savannah G2 S200 PEALD

应用领域:

芯片封装、半导体High-k介电层、纳米涂层、3D涂层、锂电池、催化剂、太阳能电池、生物医学仿生、荧光材料、OLED显示、有机材料、电子电路、光学膜等。

功能特点:

1)采用热法制备原子层纳米级薄膜沉积:

     -可以沉积有机物材料,做表面亲疏水性处理

     -可以沉积纳米粉末或颗粒物

     -可以沉积低饱和蒸气压材料

2)一个循环周期小于2秒钟

3)可增加在线椭偏仪和QCM检测

4)可增加多片批处理沉积室

5)可扩展臭氧发生器

6)可集成手套箱设备

7)可增加等离子体设备

技术参数及指标:


系统参数:
基片尺寸Savannah S100:最大100mm(4")
Savannah S200:最大200mm(8")
Savannah S300:最大300mm(12")
外观尺寸(W x D x H)Savannah S100:585 x 560 x 980mm
Savannah S200:585 x 560 x 980mm
Savannah S300:686 x 560 x 980mm
机柜不锈钢材质,前后面板可拆除和锁住
工作模式连续模式(高速)或曝光模式(超高深宽比)
工作电源115VAC or 220VAC,1500W(不含泵)
操作系统LabviewTM,WindowsTM7,Lenovo Laptop,USB Control
最高基片温度S100:RT-400℃
S200:RT-350℃
S300:RT-350℃
沉积均匀性(Al2O3)<1%(1σ)
循环周期<2s (200℃下沉积Al2O3)
真空泵Alcatel 2021C2-14.6CFM
兼容性100级洁净室
质量认证CE,TUV,FCC
前驱通道系统:
前驱通道标配2路,可扩展至6路,每路均可通固、液、气前驱物,各路均可独立加热至 200℃
快速阀门工业级ALD专用快速阀门,响应时间10ms
前驱钢瓶标配50ml不锈钢钢瓶,可以选配更大容量
运载气体N2,流量可调,0-100sccm
选配组件:
LVPD系统            低蒸汽压输送系统
Ozone Generator臭氧发生器
Dome lid多片处理3D装置
Glove Box Interface集成手套箱接口
In-Situ Ellipsometry在线椭偏仪
In-Situ Quartz Crystal MicroBalance在线QCM仪
Self Assembling Monolayers (SAMs)沉积有机物装置
PDO颗粒镀膜装置



可沉积膜层:   

氧化物:Al2O3,HfO,La2O3,SiO2,TiO2, ZnO, ZrO2, Ta2O, In2O3, SnO2, Fe2O3, MnOx, Nb2O5, MgO, Er2O3, WOx, MoO3, V2O3,CeOx    

氮化物:WN, Hf3N4, Zr3N4, AlN, TiN, NbNx,TaN,CoN,SiN,MnN,NbTiN    

硫化物:ZnS,MoS2, WS2,VS2    

金   属:Ru, Pt, W, Ni, Fe, Co, Mn, Cu    

复合物:AZO, ITO, ATO, ZnOS, HfSiOn, LiMnOx    

有机物: FOTS, FDTS, Thiols    

操控界面:专业化、人性化、开放化

通过LabView操控界面可以实现参数设置、系统动态监控、数据记录、存储与显示,用户可以自编程。




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