PECVD二维材料石墨烯等生长设备

v  功能描述：

滑轨式石墨烯 PECVD 生长炉，用于 1200℃以内快速升温、快速降温的工艺

要求，加热炉体和等离子体均可移动，可以预先设定温度，然后移动到样品处可

以达到快速升温的效果，提高石墨烯等材料的生长效率。

v  技术参数:

ü  石英管尺寸:  内径 46mm x 长度 1200mm

ü  加热器温度:  Max 1200℃

ü  加热器及尺寸:  水平分体式陶瓷成型加热器，长度 300mm

ü  滑动距离:  200mm（±100mm）

ü  低频等离子体:  功率为 300w，频率为 20-100kHz,3 条气路：H2、CH4、Ar

ü  工艺气体管道:  3 路 MFC（质量流量控制器）控制气体管道;

量程：H2,100sccm;CH4,100sccm;Ar,1slm；精度：±1%

ü  净化气体管道:  1 条净化管线，净化气体可由用户定义-氮气、CDA、空气等

ü  排气管道:  1 根排气管线，排气可由用户定义-氮气、CDA、空气等

ü  真空系统:  油式旋片泵抽速：335l/min@50Hz，极限真空：1 x 10-3torr，真空压力变送器测量范围：atm~5x 10-5torr

ü  控制系统:  7”触摸 PC，手动/全自动控制

ü  外观尺寸: 宽 2000 x 深 1000 x 高 1200（mm）

ü  选配:  射频等离子体: 功率 300W，频率 13.56MHz

v  应用领域：

ü  碳纳米管、石墨烯、纳米线、二维材料、氧化物和氮化物等材料领域的研究

ü  半导体、纳米生物和微机电系统等应用领域