OLED专用蒸发镀膜设备

 v  沉积室

ü9个有机蒸发源和3个金属蒸发源

ü单片玻璃样品（100×100mm/0.5~0.7t)

ü薄膜均匀性优越（≤±3%）

ü沉积速率可控

 v  传送系统

üLOAD-LOCK自动上下样品系统

 v  控制系统

ü提供制程工艺配方、存储数据和设置参数

ü全自动化计算机控制系统

ü具有安全互锁功能

 v  技术参数

v  Alq₃和Al沉积速率曲线

v  Alq₃和Al同时沉积速率曲线

v  蒸发源温度设定值和实际值对比

v  掩膜和样品对准效果

ü 掩膜和样品对准精度高

ü 无掩膜阴影影响（掩膜-样品间隙0.2mm）

ü 发光测试（NPB40um、Alq₃60um、LiF1um、Al1500um)

v  Alq₃和Al薄膜均匀性测量结果