ICP-RIE电感耦合等离子体/MP微波等离子体刻蚀机

v  功能特点

ü  样品尺寸4"，6"，8"

ü  LOAD-LOCK全自动进样系统

ü  ICP-RIE 刻蚀腔室，水冷样品台，可选氦气被冷系统

ü  ICP感应耦合等离子体，射频功率最大3KW，13.56MHz 或MP微波等离子体，最大功率3KW，2.56GHz

ü RIE下电极， 射频功率600W，13.56MHz

ü  8路或12路刻蚀工艺气体：Ar, O2, H2, N2, Cl2 ，CF4, CH4, SF6 ,SiCl4 , BCl3，HBr，C4F8，CHF3可选，均带MFC，防腐蚀

ü  高真空无油系统：防腐蚀涡轮分子泵+前级干泵系统

ü  FBBear系统控制软件